一种适用于对热敏感的基片进行镀膜的镀膜装置

作者:余龙;龙汝磊;戴秀海;范滨 刊名: 上传者:赵扬

【摘要】本实用新型涉及真空镀膜技术领域,尤其是一种适用于对热敏感的基片进行镀膜的镀膜装置,其特征在于:在所述镀膜源和所述镀膜伞架之间设置有具有水冷机构的水冷挡板,所述水冷挡板固定在所述真空镀膜室之中,在所述水冷挡板上开设有开口,所述开口的开设位置对应于所述镀膜源的设置位置,满足于使所述镀膜源的出射粒子通过所述开口到达所述镀膜伞架上的所述工位的需要。本实用新型的优点是:对于热敏感基片的降温效果明显,保证镀膜质量;在降温的同时,便于修正镀膜均一性;结构简单,成本低。

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