双倒筒靶结合基片双轴旋转的镀膜装置

作者: 刊名:电子科技大学学报 上传者:尹波

【摘要】双倒筒靶结合基片双轴旋转的镀膜装置由转动驱动轴、基片导轨以及基片构成,还包括:圆筒形靶材、圆筒形热屏蔽层和由多根加热丝围成的圆筒形加热器。装置制备大面积双面薄膜,在保证了大面积双面薄膜的均匀性和两面一致性的同时,提高了溅射镀膜的沉积速率,从而提高了大面积双面薄膜的生产效率,而且随着成膜时间的缩短,基片与薄膜间的互扩散问题也得到缓解。

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