半连续区熔化的结晶器

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【标题】半连续区熔化的结晶器

【外文标题】Кристаллизатор полунепрерывной зонной плавки

【来源链接】http://www.findpatent.ru/patent/243/2439213.html

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本发明是指一种化学工程,使的物质组合在冷却表面和区熔定向凝固的单个装置中的处理的连续方法纯化或分离。基于所述辊或带模具进行区熔化装置包括一容器2具有设置在其中滚筒3或磁带与熔体1接触的部分与所述设备之间的熔融金属1中,旋转冷却鼓3或移动环形带,一个或多个加热器6 8除去晶体床的和确保一个或多个本地熔融区躺在辊3的加热器6的母线形成被布置成周期性停止加热结晶层以形成晶体层的与杂质含量不同的交变部分:杂质富集和纯化。用于模具进一步的最终分离包括用于与所述滚筒3或以间歇模式在磁带的预定部分选择性地去除所述液晶层的装置9。 1 z.s. f-ly,1 il。 本发明涉及化学工程,使纯化或物质组合在定向凝固中的一个装置中的处理的冷却表面和区熔分离的连续方法。本发明可用于化学和其他相关工业中以生产高纯度结晶产物。物质熔体的净化可以在辊子和带式模具中进行。 辊模的公知的设计,其中,以提高在模具的工作表面的结晶化未使用和移除的晶体部分的过程中使用纯化的程度。本文所描述的辊子模具设计[SU 239226,1968.02.16,IPC B01D],它的改进版[SU 273158,1968.11.23,IPC B01D 9/02]一种加热器,其上部podplavlyaya晶体层生成熔体沿结晶层流动。因此,通过使用再结晶过程中的熔体层的结晶层上的逆流的方式运动,有一个额外的清洁剂。装置的劣势[SU 239226,1968.02.16,IPC B01D]和[SU 273158,1968.11.23,IPC B01D 9/02]是清洁的限制程度,由于再结晶过程,即。分馏和不深层清洁物质的方法和在熔体中杂质与熔体加热槽富集熔体流的返回的结果的杂质积聚。 已知许多发明,其目的是在带结晶装置上进行纯化过程。因此,在本发明[US 5725608,1998.03.10,IPC B01D 9/04]描述了一种带施工机械,其中,用于结晶层上的熔膜的垂直移动的逆流纯化根据本发明的装置中使用,并[SU 1124995,1984.11.23,IPC B01D 9/02]使得可以通过浸入熔体中的移动条带抓住熔体来获得结晶产品。设备的缺点[US 5725608,1998.03.10,IPC B01D 9/04和SU 1124995,1984.11.23,IPC B01D 9/02]为纯度约束,即。分馏,而不是物质的深度净化。 已知的是区域熔化的方法,广泛用于结晶物质的深度清洁。该方法的一个实施方案是预先施加到导热材料表面上的结晶层的区域熔化;本实施例中的使用,适合的有机物质深层清洁[US 6030588,2000.02.29,IPC B01D 9/04]。然而,在这种情况下区域熔化的过程只能以分批模式进行。此外,并非从污染的解决纯化的产物的分离的问题,并从在该过程中进行小区删除两个上述产品。 最接近的技术方案技术实质和可获得的结果与本发明是结晶纯化深区熔法半[RU 2308555,20.10.2007,IPC S30V 13/00,B01D 9/02]的装置。本发明涉及化学工程,使纯化或物质组合在定向凝固中的一个装置中的处理的冷却表面和区熔分离的连续方法。进行纯化形成从熔体在步骤定向凝固模具的工作表面上的晶体层的连续区域熔化法。为此,必须在结晶器的工作表面上的结晶层中获得局部熔融区;确保从熔化区去除杂质;在局部熔融区的边缘产生足够的温度梯度,以确保结晶层从区域的一个边缘熔化由于熔融区的移动,熔体从另一边缘熔化和结晶。 本发明的主要缺点是复杂的装置和从相应的熔融区周期性地除去富含杂质的熔体的方法。用于此目的的复杂的真空工艺,毛细管转移,复合物熔体和接收器的定位方法,这降低了设备的可靠性,并提高其故障的可能性由于熔体的可能堵塞和不准确的定位接收器。在清洁过程中该混合物在熔化区的移动方向移动并累积靠近小区的两侧中的一侧。该纯化方法的一个缺点是还需要周期性关机处理,并从含杂质富集结晶层部分纯化的晶体层的机械分离部。因此,仅在实验室条件下使用该装置是可取的。 本发明的技术效果是简化结构并提高结晶装置的可靠性。为此,通过从结晶器的冷却表面选择性地除去结晶层,在区域熔化步骤之后进行杂质的去除。 技术结果是,所述模具辊或带实现,其包括一容器与熔融旋转冷却鼓或移动环形带,一个或布置在其中的辊或带与熔融和除去晶体层的器件相接触的部分之间多个加热器,以及提供位于辊子母线上的一个或多个局部熔化区的形成具有加热器,其配置成周期性地停止加热结晶层,模具还包括用于以分批模式从辊或条的预定部分选择性地去除结晶层的设备。 实现多个区熔化,并与杂质含量不同的晶体层上形成交替的部分 - 富集的杂质和纯化的加热器应该能够停止周期性加热晶层,其可通过机械位移来实现和/或从电源关闭加热器。一种多区熔化在该取得的在滚筒的表面上以恒定速度晶体层加热的周期性停止的结果,待纯化依次由每个加热器处理的结晶层的每个部分,形成局部熔化区,和在局部熔化区加热的结束时位于上段,用于积累杂质,与待清洁的区域交替。将纯化的物质以及在杂质去除步骤中富集的组合物的最终分离是通过至少两个拾取装置的液晶层,其中至少一个的允许选择性地去除与预定部分来进行与鼓表面上的晶体层上。 所描述的结构可类似地以条带结晶器的形式实现。因此,代替旋转滚筒是使用移动带封闭,而不是使用一个容器与熔体模具结构,也可以应用于具有一个料斗铸造模具的设计中,熔体供给到磁带上。 该图显示了用于清洁物质的辊式结晶器,其具有半连续区域熔化。位于容器2的熔体1中,结晶旋转滚筒3的表面上,冷却的制冷剂4.在辊的表面3所形成,其通过一个或多个局部熔液区躺在辊的母线形成期间的单个或多个频带熔化的结晶层5,与一个或多个加热器6设置在辊3是与熔体1和用于除去晶体层8结晶器进一步的装置接触的部分之间包括一个装置9对于以分批模式,它允许分开的部分已经通过区域熔化工序中,液晶层7与滚筒的预定部分选择性地去除所述晶层的杂质富集和通过区域熔化纯化。选择性除去所述结晶层的装置9可以被实现,例如,作为移动切割机或用于具有相对移动所述滚筒的能力的结晶层的局部熔化的装置。 1.一种模具或辊式输送机,其包括与所述熔化槽,冷却的转鼓或移动环形带,一个或布置在其中的辊或带与熔融和除去晶体层,并且提供一个或多个形成的装置接触的部分之间多个加热器位于辊子母线上的局部熔化区,其特征在于加热器是由加热器制成的在周期性地停止加热结晶层的可能性中,结晶器还包括用于以间歇模式从辊或条的预定部分选择性地除去结晶层的装置。 2.根据权利要求1所述的结晶器,其特征在于,通过从电源机械地移动和/或关闭加热器来实现对结晶层的加热的周期性关闭。